氨氣是半導體制程中重要的材料，以發光二極管(LED)為例，純氨是制造LED的氮化鎵晶體的重要材料，一般LED廠使用的純氨雖為6N5(99.99995%)以上的等級，但純氨仍無法避免含有微量的有機物，例如丙酮、異丙醇、甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、丙烯等。當LED廠以MOCVD制程在高溫下(750～1050℃)合成氮化鎵時，有機物將會裂解為烷類、烯類、一氧化碳、二氧化碳、碳粒、烯酮等的衍生雜質。
　　在另一方面，每提供100公斤的純氨進入LED制程，將會有80公斤的氨氣被排出制程，而一般排出制程的氨氣濃度約為10%～15%，并包括氫氣、氮氣、甲烷、微量氣體(一氧化碳、二氧化碳、烯酮)及粒狀物(碳粒及金屬鎵)，一般大都將這些排出的氨氣視為廢棄物而不再利用。排出的廢氨氣通常會被導入水中，并形成氨水排出。
氨水處理裝置，其特征在于，它包括：
　　多個板槽，以層迭的方式設置，該板槽包括一板體及至少一側板，其中，該板體包括一上表面及一下表面，而該側板設置于該板體的該上表面，使得該側板與該板體的該上表面之間形成至少一容置槽;
　　一外殼體，包括多個殼板、至少一液體輸入端、至少一液體輸出端及至少一氣體輸出端，該多個殼板之間具有一容置空間，該層迭設置的板槽設置于該容置空間內，并將該容置空間區隔成為流動空間，其中，該液體輸入端、該液體輸出端及該氣體輸出端流體連通該流動空間，且該流體輸入端的上方及下方皆設置該板槽;

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